扫描电镜归档.docx

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扫描电镜归档

目录

1蔡司2

1.1EVOMA10/LS10钨灯丝扫描电子显微镜2

1.2EVOMA15/LS15钨灯丝扫描电子显微镜3

1.3EVOMA25/LS25钨灯丝扫描电子显微镜3

1.4钨灯丝扫描电子显微镜EVO184

2美国FEI6

2.1Magellan™XHR扫描电子显微镜6

2.2Quanta250/450/650系列环境扫描电子显微镜7

2.3InspectS50扫描电子显微镜7

2.4InspectF50场发射扫描电子显微镜8

2.5QuantaFEG系列”场发射环境扫描电镜8

2.6NovaNanoSEM50系列”超高分辨率场发射扫描电子显微镜9

2.7HeliosNanoLabFESEM/FIB"双束"显微镜10

3日立高新11

3.1S-3400N扫描电子显微镜11

3.2S-3700N扫描电子显微镜14

3.3SU1510扫描电子显微镜16

4日本电子18

4.1传统钨丝高/低真空扫描电子显微镜19

4.1.1JSM-6610扫描电子显微镜19

4.1.2JCM-5000NeoScope扫描电子显微镜21

4.1.3JCM-6000NeoScopeTM台式扫描电子显微镜22

4.1.4JASM-6200ClairScope™扫描电子显微镜25

4.2热场发射扫描电子显微镜27

4.2.1JSM-7001F扫描电子显微镜27

4.2.2JSM-7100F（NEW）热场发射扫描电子显微镜28

4.2.3JSM-7600F扫描电子显微镜30

4.2.4JSM-7800F热场发射扫描电子显微镜32

4.3.JSM-7500F冷场发射扫描电子显微镜33

1蔡司

作为世界顶级光学品牌，可见光学和电子光学的领导者。

蔡司的电子光学前身为LEO（里奥），更早叫Cambridge（剑桥）和ZEISS。

1965年推出世界第一台商业化扫描电镜；1985年推出世界上第一台数字化扫描电镜。

EVO系列电镜是高性能、功能强大的高分辨应用型扫描电子显微镜。

MA10用于材料领域,LS10用于生命科学领域。

该系列电镜采用多接口的大样品室和艺术级的物镜设计，提供高低真空成像功能，可对各种材料表面作分析，并且具有业界领先的X射线分析技术。

革命性的Beamsleeve的设计，确保在低电压条件下提供高分辨率的锐利图像，同时还可以进行准确的能谱分析。

样品台为五轴全自动控制。

标准的高效率无油涡轮分子泵能够满足快速的样品更换和无污染（免维护）成像分析。

1.1EVOMA10/LS10钨灯丝扫描电子显微镜

用途：

扫描电镜（SEM）广泛地应用于金属材料（钢铁、冶金、有色、机械加工）和非金属材料（化学、化工、石油、地质矿物学、橡胶、纺织、水泥、玻璃纤维）等检验和研究。

在材料科学研究、金属材料、陶瓷材料、半导体材料、化学材料等领域进行材料的微观形貌、组织、成分分析，各种材料的形貌组织观察，材料断口分析和失效分析，材料实时微区成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面扫描和线扫描分布测量，晶体、晶粒的相鉴定，晶粒尺寸、形状分析，晶体、晶粒取向测量。

技术参数：

分辨率：

2.0nm@30KV（SEwithLab6option） 3.0nm@30KV（SEandW） 4.5nm@30KV（VP

withBSD）

加速电压：

0.2—30KV

放大倍数：

7—1000000x

视野范围：

6mm

X-射线参数：

8.5mmWD，35度接收角

压力范围：

10—400Pa（LS10:

10-3000Pa）

工作室：

310mm（φ）×220mm（h）

5轴优中心自动样品台：

X=80mmY=100mmZ=35mmT=0-90°R=360°

最大试样高度：

100mm 试样最大直径：

200mm

系统控制：

基于WindowsXP的SmartSEM

主要特点：

可变压力下操作

超大移动平台

快速抽真空

未来的保证，可升级为水蒸气扩展图像

高亮度LaB6资源选择

光线套选择

技术优势：

通过网络可远程控制

可移动大平台

通用图像处理

改进了低真空图像

业界领先的X-射线分析技术

1.2EVOMA15/LS15钨灯丝扫描电子显微镜

用途：

扫描电镜（SEM）广泛地应用于金属材料（钢铁、冶金、有色、机械加工）和非金属材料（化学、化工、石油、地质矿物学、橡胶、纺织、水泥、玻璃纤维）等检验和研究。

在材料科学研究、金属材料、陶瓷材料、半导体材料、化学材料等领域进行材料的微观形貌、组织、成分分析，各种材料的形貌组织观察，材料断口分析和失效分析，材料实时微区成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面扫描和线扫描分布测量，晶体、晶粒的相鉴定，晶粒尺寸、

形状分析，晶体、晶粒取向测量。

技术参数：

分辨率：

2.0nm@30KV（SEwithLab6option） 3.0nm@30KV（SEandW） 4.5nm@30KV（VPwithBSD）

加速电压：

0.2—30KV

放大倍数：

5—1000000x

视野范围：

6mm

X-射线参数：

8.5mmWD，35度接收角

压力范围：

10—400Pa（LS15:

10-3000Pa）

工作室：

365mm（φ）×275mm（h）

5轴优中心自动样品台：

X=125mm Y=125mm Z=50mm T=0-90°R=360°

最大试样高度：

145mm，最大试样直径：

250mm

系统控制：

基于WindowsXP的SmartSEM

 主要特点：

能在可变压力下操作

先进X射线和EBSD分析

可移动大平台

快抽真空

未来的保证，可升级在高压和水蒸气下成像和分析

高亮度LaB6资源选择

光线套选择

技术优势：

通过网络可远程控制

在z轴上可机动化的移动50毫米并且在X和y轴上可移动125毫米

样本高度最大增加到145毫米

改进了低真空图像

业界领先的X-射线分析技术

1.3EVOMA25/LS25钨灯丝扫描电子显微镜

用途：

扫描电镜（SEM）广泛地应用于金属材料（钢铁、冶金、有色、机械加工）和非金属材料（化学、化工、石油、地质矿物学、橡胶、纺织、水泥、玻璃纤维）等检验和研究。

在材料科学研究、金属材料、陶瓷材料、半导体材料、化学材料等领域进行材料的微观形貌、组织、成分分析，各种材料的形貌组织观察，材料断口分析和失效分析，材料实时微区成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面扫描和线扫描分布测量，晶体、晶粒的相鉴定，晶粒尺寸、形状分析，晶体、晶粒取向测量。

技术参数：

分辨率：

2.0nm@30KV（SEwithLab6option） 3.0nm@30KV（SEandW）4.5nm@30KV（VPwithBSD）

加速电压：

0.2—30KV

放大倍数：

5—1000000x

视野范围：

6mm

X-射线参数：

8.5mmWD，35度接收角

压力范围：

10—400Pa（LS25-3000Pa）

工作室：

420mm（φ）×330mm（h）

5轴试样载物台：

X=130mm Y=130mm Z=50mm T=0-90°R=360°

最大试样高度：

210mm，试样最大直径：

300mm

系统控制：

基于WindowsXP的SmartSEM

主要特点：

最大的样品高度可达210mm 

最大样品重量5Kg 

最大的样品直径300mm 

能在可变压力下操作

高亮度LaB6资源选择

光线套选择

技术优势：

在z轴上可机动化的移动50mm并且在X和Y轴上可移动130mm

通用图像处理

用X射线分析改进了LaB6成像质量

支持两个空间的范围

1.4钨灯丝扫描电子显微镜EVO18

EVO®18，具有处理所有类型材料能力的分析显微镜为您提供卓越的成像质量。

标配能谱仪（EDS）和波谱仪（WDS）接口，领先的X射线几何条件对所有样品提供了最精确的分析。

对于非导体采用电子束衬管技术也提高了图像质量和分析精度。

可选择LaB6高亮度光源，在与X射线分析相适应的探针电流的性能上提高到一个新的水平。

在8.5mm的分析工作距离，EVO®18能够处理的样品可达250mm直径和145mm高。

此外，共面的设计为EBSD与EDS的联合使用提供了理想的几何条件。

无论何时对于你的材料分析的挑战，EVO®18都能使你的样品清晰可见。

●配备X射线能谱仪并具有领先的X射线分析几何条件

●使用可变压力工作模式进行样品的电荷中和

●大的样品台移动范围

●电子束衬管用于增强成像与分析

●用可选的LaB6电子源进行高性能成像

EVO®18-圆满的材料分析解决方案

全球解决方案提供商卡尔•蔡司的纳米技术系统部采用最尖端的电子显微镜技术为用户提供全面的解决方案。

公司广阔的专业技术，在电子束技术领域中进行了超过60年的一丝

不苟的努力，对市场已经产生了很多开拓性的创新。

我们的全球应用与服务网络保证对用户的需求提供快速、可靠与高质量的技术支持。

与专有的升级战略相结合，这将保护你的投资用于它的整个寿命。

这个核心技术嵌入我们新研发的产品中，使我们能够提供为我们用户的事业增值的解决方案。

技术参数：

成像方案:

 导体非导体气体析出样品

分辨率:

  3.0nm@30kV（SE与W）

               2.0nm@30kV（SE带有）

               4.5nm@30kV（VP模式-BSD或SE）

加速电压：

0.2-30kV

放大倍数:

 5-1,000,000x

视野:

         6mm在分析工作距离（AWD）

X射线分析:

 8.5mmAWD，35°出射角

OptiBeam®*模式:

 分辨率、景深、分析、大视野

压力范围:

 10-400Pa用空气或可选的水蒸汽

可选探测器:

 ZEISSBSD用于所有模式-四象限半导体二极管探测器 

                      VPSE-可变压力二次电子探测器

                      SCD-样品电流探测器

样品室尺寸:

 365mm（Φ）x255mm（h）

5轴电动计算机对中样品台:

 X=125mm

                          Y=125mm

                           Z=50mm（35mm电动）

                          最大样品高度120mm

                           T=0-90°

                           R=360°（连续）

                           样品台由鼠标、操纵杆和控制板控制

未来保证升级途径:

 电子束衬管 

                                  扩展压力

                                  水蒸汽VP气体

图像处理:

 分辨率可达3072x2304像素用叠加和平均方式进行信号采集

图像显示:

 高对比度彩色平板TFT显示器用于以1024x768像素显示SEM图像

系统控制:

 用鼠标和键盘操作的SmartSEM™**GUI多语言简明的GUIWindows®XP操作系统

实用要求:

 100–230V,50或60Hz单相不需要水冷

OptiBeam®*—以主动式镜筒控制实现最高分辨率、最大视野或者最佳景深

SmartSEM™**—第五代扫描电镜控制图形用户界面

2美国FEI

为全球纳米技术团体提供世界级的显微镜学解决方案，FEI 是一家生产、经营多种科学仪器的业内领先企业。

 其产品包括电子和离子束显微镜，以及 可满足多个行业纳米尺度应用的相关产品，这些行业横跨：

 工业和理论 材料研究、生命科学、半导体、数据存储、自然资源 等等诸多领域。

凭借过去 60 年的技术创新历史和业内领导地位， FEI 成为了透射电子显微镜 （TEM）、 扫描电子显微镜 （SEM）、结合了 SEM 与聚焦离子束 （FIB） 的 DualBeam™ 仪器和 用于精密高速切割与加工的专用聚焦离子束仪器的 性能标准。

 FEI 成像系统在三维 表征、分析和修改/原型设计领域实现了 亚埃（埃：

十分之一纳米）级分辨率。

FEI NanoPorts 在东京、美国俄勒冈州波特兰、荷兰埃因霍温 和中国上海均有设点，它们都是卓越中心。

在这里，众多科学家、研究者以及工程师 都可在 FEI 应用专家的直接帮助下 体验世界级显微 分辨率。

 本公司有近 1800 名员工，已在全球超过 50 个国家或地区开展了 销售和服务业务。

美国FEI公司通过收购美国Aspex公司，扩展工业市场机会，提供施工现场可以展开工作的加固防震扫描电镜。

FEI是美国纳斯达克上市公司FEIC,是一家为科研和工业提供电子显微图像和分析系统的全球化领导型仪器企业，昨天2012年1月9日宣布，获得了位于DelmontPA的ASPEX公司控制权，Aspex提供加固防震扫描电镜和与环境方面有关的军事、工业和车间工人工作现场的需求相关的服务。

FEI将整合旗下的QEMSCAN与Aspex技术市场资源。

收购价格为3050万美元。

2011年，Aspex在全球总销售收入是1000万美元，约40~50台套，自2006年以来，平均增长率为24%。

2.1Magellan™XHR扫描电子显微镜

极高分辨率的扫描电子显微镜

MagellanXHRSEM系列扫描电子显微镜（SEM）让科学家和工程师迅速看到以前无法视及的微观世界：

高灵敏的表面图像、以及俯视或从其它角度观看图像，分辨率可达到一纳米以下。

这款电镜上的一些重要突破在于它镜筒上采用了革命性的单色枪技术,它使显微学家可完美地把高空间分辨率和超浅入射电子束结合在一起。

MagellanXHRSEM系列扫描电子显微镜（SEM）在不受样品大小限制的条件下,既扩展了传统纳米尺度扫描电子显微镜的成像和分析范围与能力，同时又具备相当于传统扫描电子显微镜（SEM）的速度和易用性。

规格

加速电压5V-30kV

放大倍数在射束同心时为1.5mm（宽度为4mm）

探针电流电子束：

1pA-22nA

试件室100mm直径、360度旋转（最大）

主要优点

•亚纳米分辨率、1kV-30kV加速电压、无与伦比的稳定性和高达20nA的电子电流

•创新的电子光学，包括FEI的单色UniColore（UC）专利技术（使能散小于0.2eV）

• 使用单个工具进行材料和缺陷分析，实现高生产量和“快速应答”

•表面灵敏高分辨率成像，低至50V的着陆能量

•高精密、高稳定样品台，可在大分析室内进行100x100mm样品完整表面的超高分辨成像

•样品尺寸、形状、成分、制备不会互相制约

•包括分析和原型制造的多样应用性

•简单易学、易用

2.2Quanta250/450/650系列环境扫描电子显微镜

仪器简介：

Quantax50系列扫描电子显微镜是FEI公司最新一代的、真正的多用途扫描电镜，是著名的Quanta产品家族的第三代产品。

技术参数：

1.分辨率:

　二次电子:

　　高真空模式3.0nm@30kV,8nm@3kV

　　高真空减速模式7nm@3kV（可选项）

　　低真空模式3.0nm@30kV,10nm@3kV

　　环境真空模式3.0nm@30kV

　背散射电子4.0nm@30kV

2.样品室压力最高达2600Pa

3.加速电压200V～30kV，连续调节

4.样品台移动范围

　Quanta250:

X=Y=50mm

　Quanta450:

X=Y=100mm

　Quanta650:

X=Y=150mm

主要特点：

1.FEIESEM（环境扫描电镜）技术,可在高真空、低真空和环境真空条件下对各种样品进行观察和分析。

2.所有真空条件下的二次电子、背散射电子观察和微观分析。

3.先进的系统结构平台，全数字化系统。

4.可同时安装能谱仪、波谱仪和EBSP系统。

5.可安装低温冷台、加热台、拉伸台等进行样品的原位、动态观察和分析。

2.3InspectS50扫描电子显微镜

技术参数：

1.电子枪：

高亮度、方便维护的钨灯丝电子枪

2.分辨率:

　二次电子:

　　高真空模式3.0nm@30kV;8nm@3kV

　　高真空减速模式7nm@3kV（可选项）

　　低真空模式3.0nm@30kV;10nm@3kV

　背散射电子:

　　4.0nm@30kV

3.加速电压：

200V-30kV,连续可调

4.探测器：

E-T二次电子探测器，可选背散射探测器

5.50x50mm4轴马达驱动全对中样品台

主要特点：

1.分子泵真空系统

2.高稳定性、高亮度钨灯丝电子枪，满足高分辨观察和微观分析的要求

3.FEI独特的LFD低真空二次电子探测器

4.可同时安装能谱仪、波谱仪和EBSP系统

5.基于WindowsXP的图形用户界面,简单易用

2.4InspectF50场发射扫描电子显微镜

仪器简介：

在结构研究中, 大量的样品需要在高放大倍数、更多细节的水平上进行观察和分析。

同时, 随着样品种类的不断增多（如:

 低原子序数材料, 不导电材料等）, 需要扫描电子显微镜提供优异的低加速电压性能, 以获得高质量的真实表面图像。

Inspect F50 场发射扫描电子显微镜系统就是根据这一要求而设计的。

它还提供了低加速电压的背散射电子图像, 薄样品的暗场/明场STEM（扫描透射）像。

Inspect F50 系统操作和维护方便, 同时可安装各种扫描电镜的附件（如:

 能谱仪系统, 波谱仪系统, EBSD等等）。

InspectF50是一款经典的场发射扫描电子显微镜。

技术参数：

1.灯丝:

超高亮度Schottky场发射灯丝

2.分辨率：

1.0nm@30kV,3.0nm@1kV

　二次电子:

　　1.0nm@30kV,3.0nm@1kV

　　减速模式2.3nm@1kV,3.1nm@200V（可选项）

　背散射电子:

　　2.5nm@30kV

3.加速电压：

200V-30kV,连续可调

4.探测器：

E-T二次电子探测器，可选背散射探测器

5.50x50mm4轴马达驱动全对中样品台

主要特点：

1.分子泵+离子泵真空系统

2.高稳定性、超高亮度场发射灯丝，满足高分辨观察和微观分析的要求

3.可选FEI独特的STEM探测器，分辨率达到0.8nm

4.稳定的大束流（最大200nA）确保高速、准确的能谱、波谱和EBSD分析

5.WindowsXP操作系统

2.5QuantaFEG系列”场发射环境扫描电镜

仪器简介：

Quanta FEG系列场发射环境扫描电子显微镜是FEI公司的最新产品之一。

是在FEI公司著名产品XL30 ESEM-FEG场发射环境扫描电子显微镜的基础上发展而来的。

Quanta FEG场发射环境扫描电子显微镜综合场发射电镜高分辨和ESEM环境扫描电镜适合样品多样性的优势，可对各种各样的样品（包括导电样品、不导电样品、含水含油样品、加热样品等等）进行高分辨的静态和动态观察和分析。

Quanta FEG和Quanta一样具有优异的系统扩展性能，可同时安装能谱仪、波谱仪、EBSP、阴极荧光等附件。

技术参数：

1.分辨率：

　二次电子:

　　高真空模式1.0nm@30kV;3.0nm@1kV

　　高真空减速模式2.3nm@1kV,3.1nm@200V（可选项）

　　低真空模式1.4nm@30kV;3.0nm@3kV

　　环境真空模式1.4nm@30kV

　背散射电子:

　　高真空和低真空模式:

2.5nm@30kV

　扫描透射STEM探测器:

　　0.8nm@30kV

2.加速电压200V～30kV,连续可调

3.高稳定性Schottky场发射电子枪

4.最大束流200nA

5.样品室压力最高达4000Pa

6.样品台移动范围

　Quanta250FEG:

X=Y=50mm

　Quanta450FEG:

X=Y=100mm

　Quanta650FEG:

X=Y=150mm

主要特点：

1.完全数字化系统控制，WindowsXP操作系统

2.场发射环境扫描系统兼顾高分辨和样品多样性

3.数字电影功能可将观察过程记录为avi视频文件

4.稳定的大束流（最大200nA）确保高速、准确的能谱、波谱和EBSD分析

5.可安装冷台、加热台、拉伸台等进行样品原位、动态观察和分析

2.6NovaNanoSEM50系列”超高分辨率场发射扫描电子显微镜

Nova系列扫描电子显微镜（SEM）具有低真空功能，是满足研究实验室、半导体和数据存储实验室和制造工厂、生物和生命科学实验室及其他行业各种成像、分析和样品制备需求的理想之选。

Nova系统包含EBIC、冷冻样品台、STEM、EDS、WDS和EBSD。

技术参数：

分辨率高真空

30kV（STEM）

15kV（TLD）

1kV（TLD、无BD）

100V（DBS）

15kV,5nA

0.8nm

1.0 nm

1.4nm

3.5nm

3.0nm

分辨率低真空 

3kV和30Pa（Helix）

10kV

1.8nm

1.5nm

射束电流 

高达200nA

着陆电压范围

50V-30kV

样品台

XxYxZ（mm）

110x110x25

150x150x10

机室

大试件室

探测

透镜内

透镜下、大角度探测器

TLDSE和BSE

高灵敏度DBS（SE/BSE）

主要特点：

•场发射SEM、超稳定高电流Schottky电子枪

•先进的光学和探测技术，包括沉浸模式、射束减速、透镜内TLD-SE和TLD–BSE、DBS和STEM，可实现最佳信息选择和图像优化

•低至50V的射束着陆能量

•1.4nm@1kV、无射束减速

•全球唯一真正高分辨率的低真空FESEM：

1.8nm@3kV和30Pa

•高达200nA的