金相分析及检测基础.docx
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金相分析及检测基础
绪论
金相分析是研究金属及其合金内部组织及缺陷的主要方法之一，它在金属材料研究领域中占有很重要的地位。
利用金相显微镜在专门制备的试样上放大100～1500倍来研究金属及合金组织的方法称为金相显微分析法，它是研究金属材料微观结构最基本的一种实验技术。
显微分析可以研究金属及合金的组织与其化学成分的关系；可以确定各类合金材料经过不同的加工及热处理后的显微组织；可以判别金属材料的质量优劣，如各种非金属夹杂物－－氧化物、硫化物等在组织中的数量及分布情况以及金属晶粒度的大小等。
在现代金相显微分析中，使用的主要仪器有光学显微镜和电子显微镜两大类。
本书以常用的光学金相显微镜为例进行介绍。
第一章金相试样的制备
§1.1取样和镶嵌
一、纯金属的晶体结构
一、取样
（一）取样部位和磨面方向的选择
取样部位必须与检验目的和要求相一致，使所切取的式样具有代表性。
例如：
上图中1用于检验非金属夹杂物的数量、大小、形状；2用于检验晶粒的变形程度；3用于检验钢材的带状组织消除程度。
（二）取样方法
1.金相式样的形状
①Φ12×12mm的圆柱体。
②12×12×12mm的立方体。
③其他不规则的形状。
式样的棱边应倒圆，防止在磨制中划破砂纸和抛光织物。
2.取样方法
①硬度较低的材料如低碳钢、中碳钢、灰口铸铁、有色金属等。
用锯、车、刨、铣等机械加工。
②硬度较高的材料如白口铸铁、硬质合金、淬火后的零件等。
用锤击法，从击碎的碎片中选出大小适当者作为试样。
③韧性较高的材料
用切割机切割。
④大断面和高锰钢等
用氧乙炔焰气割。
二、试样的热处理
取下来的试样有的可直接进行磨制，有的尚需按照相应的标准经热处理后才能进行磨制，如检验钢的本质晶粒度、非金属夹杂物、碳化物不均匀等。
1.本质晶粒度试样的热处理
（1）渗碳法——用于低碳钢。
（2）网状铁素体法——用于中碳钢。
（3）网状屈氏体法——用于共析钢。
（4）网状渗碳体法——用于过共析钢。
（5）氧化法——
1°木炭氧化法将抛光试样用木炭覆盖，加热至930℃，保温3h后再将木炭抖掉，在炉膛中氧化5min后水淬。
2°真空氧化法将抛光试样在真空中或惰性气体中加入至930℃，保温3h后，再通入空气，经30～60s短时间氧化，最后水淬。
3°热浸氧化法将试样在预先脱氧良好的盐浴中加热至930℃，保温3h，再将试样移入具有弱氧化作用的盐浴中浸蚀。
浸蚀温度仍为930℃，浸蚀时间为2～5min，取出后油淬，最后用水清洗、吹干，置于金相显微镜下观察。
（6）直接浸蚀法——
2、非金属夹杂物试样的热处理
3、碳化物不均匀度试样的热处理
二、镶嵌
1.机械夹持法
适用于表层检验，不易产生倒角。
要求：
夹具的硬度略高于试样（低、中碳钢均可）；垫片多用铜或铝质；垫片的电极电位略高于试样。
2.塑料镶嵌法
一种是用环氧树脂在室温镶嵌；一种是在专用的镶嵌机上进行。
（1）环氧树脂镶嵌
要求:
材料为环氧树脂+固化剂+磨料；用于较硬且热敏感性不高的材料。
（2）镶嵌机镶嵌
是在专用的镶嵌机上进行镶嵌。
镶嵌机由加热、加压、压模装置组成。
（3）低熔点合金镶嵌
配制合金→熔化浇注即可。
§1-2磨光与抛光
一、磨光
目的是得到光滑平整的表面。
1.粗磨
目的：
将取样形成的粗糙表面和不规则外形休整成形。
要点：
（1）根据检验目的确定磨面方向。
（2）可手工或机械磨制。
手工磨制常用于较软的有色金属及其合金，采用的工具为锉刀或粗砂纸。
机械磨制常用于钢铁材料，采用的工具为砂轮。
机械磨制时，应注意冷却试样，否则发热易导致金属内部组织变化。
2.手工细磨
手工细磨是在由粗到细的砂纸上进行。
要点：
砂纸平铺在玻璃板、金属、塑料或木板上，一手紧压砂纸，另一手平稳拿住试样，将磨面轻压砂纸，向前推移，然后提起、拉回。
拉回时试样不得基础砂纸，不可来回磨削，否则易磨成弧形，得不到平整的磨面。
金相砂纸规格见教材。
手工细磨时应注意：
（1）粗磨后的试样须清洗、吹干后进行细磨，直到得到方向一致的磨痕，再更换更细的砂纸，并转90°后继续磨制。
（2）磨制时压力不能过大，否则磨痕过深、发热严重。
（3）磨制软材料时，应在砂纸上滴润滑剂。
（4）磨过硬材料的砂纸不得用于软材料的磨制。
3.机械细磨
常用装置有预磨机、蜡盘、预磨膏。
（1）预磨机细磨
把由粗到细的水砂纸置于旋转盘上，加水润滑兼冷却，试样磨面轻压在砂纸上，沿径向移动试样并与旋转方向相反转动，待粗磨痕消失，新磨痕一致即可。
水砂纸与金相砂纸的规格不同。
（2）蜡盘细磨
把石蜡、磨料加热搅拌均匀，使成糊状，浇注到预磨机或抛光机上，约5～10mm厚，待冷却后刮平后即可使用。
二、抛光
金相试样磨制的最后一道工序。
抛光方式有机械抛光、电解抛光、化学抛光、综合抛光等。
（一）机械抛光
目前应用最为广泛，分为粗抛和精抛（抛光粉颗粒大小不同）。
较软的金属必须粗磨和精磨，对钢铁材料仅粗磨即可。
1.机械抛光设备
国产抛光机有单盘P-1和双盘P-2型，都是由电动机（0.18KW）带动旋转盘，转速为1350r/min。
旋转盘由铜或铝制成，直径200～250mm。
2.抛光原理
（1）磨削作用:
图1-15。
（2）滚压作用：
甩出抛光微粉在织物与磨面间滚动，实现滚压作用。
3.抛光微粉
4.抛光织物（抛光布）
作用：
1）织物纤维能嵌存抛光粉，能防止磨粉不因离心力而散失。
2）能贮存部分润滑剂。
3）织物纤维与磨面间磨削，能使磨面更加光亮。
5.抛光操作
1）在抛光时，试样和操作者双手及抛光用具必须洗净，以免将粗砂粒带入抛光盘。
2）抛光微粉悬浮液的浓度一般为5～15%的抛光粉蒸馏水悬浮液，装在瓶中，使用时摇动，滴入抛光盘中心。
3）抛光盘湿度是以提起试样，磨面上的水膜在2～3s自行蒸发干为宜。
4）抛光时试样磨面应平稳轻压于抛光盘中心附近，沿径向缓慢往复移动，并逆抛光盘旋转方向轻微转动，以防磨面产生曳尾。
5）极软极硬金属的磨制特点
对于铜、铝、铅等金属及其合金，试样制备时易引起金属形变层，使金属扰乱层加厚。
常采用手工取样，手工粗磨，使用新砂纸手工细磨，并在砂纸上滴以润滑剂。
对于硬质合金试样，常采用60目软质碳化硅砂轮粗磨；在主贴盘上洒以200目碳化硼或金刚石粉细磨试样，并滴入机油润滑，约2～3min即可；最后在特制的塑料抛光盘上抛光2～3min，抛光时涂以金刚石研磨膏，也可在金属抛光盘上蒙上尼龙布，再涂金刚石研磨膏进行抛光。
6）铸铁及非金属夹杂物试样的抛光
铸铁中的石墨及金属中的非金属夹杂物，在抛光时易拖尾、扩大、剥落，因此多用手工细磨，用肥皂作润滑剂；也可用蜡盘代替手工细磨，但是必须选用短纤维抛光布。
（二）电解抛光
利用电解方法，以试样表面作为阳极，逐渐使凹凸不平的磨面溶解成光滑平整的表面。
适用于硬度较低的单相合金、容易产生塑性变形而引起加工硬化的金属材料，如奥氏体不锈钢、高锰钢、有色金属和易剥落硬质点的合金等的试样抛光。
1.电解抛光装置
包括阳极（试样）、阴极、搅拌器、电解槽、电解液、电流计等部件。
2.电解抛光原理
电解抛光是电化学过程，是一个复杂的物理化学过程，其理论尚不完善。
常用薄膜理论来解释。
电解抛光的进行须依赖于稳定的薄膜，这就需要弄清楚电解抛光特性曲线。
（1）第一类电解抛光特性曲线
（2）第二类电解抛光特性曲线
3.电解抛光介质
电解液液的种类很多，按使用温度不同分为冷电解抛光液和热电解抛光液。
4.电解抛光操作
（1）试样准备粗磨→细磨至02号金相砂纸；选择电解液；检查线路等。
（2）电解抛光参数选择
（3）电解抛光注意事项
（三）化学抛光
1.化学抛光原理
化学抛光仅使磨面光滑，并不使磨面平坦，溶解速度比电解抛光慢，抛光时间较长。
2.化学抛光液及抛光操作
（四）综合抛光
1.化学机械抛光
把化学抛光液冲淡成1︰2或1︰10，并加入适量抛光粉，在机械抛光盘上进行抛光。
2.电解机械抛光
在化学机械抛光时，在试样与抛光盘之间接以直流电源，电解液同时起电解液的作用，用电解来加速抛光过程。
§1-3金属纤维组织的显示
组织的显示方法很多，可分为化学显示、电解显示等
一、化学显示法（化学浸蚀法）
将抛光好的试样磨面浸入化学试剂中或用化学试剂擦拭试样磨面，显示出纤维组织的方法。
（一）化学浸蚀原理
化学浸蚀是一个电化学溶解过程。
在金属中晶粒与晶粒之间、晶粒与晶界之间、各相间的物理化学性质不同，自由能不同，在电解质溶液中则具有不同的电极电位，可组成微电池。
较低电位部分是微电池的阳极，溶解较快。
溶解的地方则凹陷或沉积反应产物而着色。
在显微镜下观察时，光线在晶界处被散射，不能进入物镜而显示出黑色晶界，而其它地方呈白色。
1.纯金属及单相合金的浸蚀
2.多相合金的浸蚀
多相合金的浸蚀比较复杂，不仅有选择性的化学腐蚀作用，同时还有电化学腐蚀作用。
例如片状珠光体组织中，铁素体的电极电位低于渗碳体的电极电位，在稀硝酸浸蚀剂中铁素体为阳极，渗碳体为阴极。
当浸蚀时间适当时，铁素体被均匀地溶去一薄层，但在两相交界处则被腐蚀较深呈现凹陷，若在高倍显微镜下观察时，能看到渗碳体周围有一圈黑线围绕着，显示两相边界。
若降低放大倍数，当物镜鉴别能力小于渗碳体片层厚度时，只能看出一条条黑线（这些黑线是渗碳体边缘的两条边界线）。
若物镜兼备能力小于珠光体层间距时，则珠光体无法分辨，而呈现黑色块状。
（二）化学浸蚀剂
种类繁多，是酸、碱、盐类的混合溶液。
（三）浸蚀操作
一般浸蚀操作过程：
冲洗抛光试样→酒精擦洗→浸蚀→冲洗→酒精擦洗→吹干。
1.浸蚀方式
浸蚀方式有浸入法、擦拭法两种。
2.浸蚀操作时的注意事项
（1）浸蚀时间及其深浅程度
（2）金属扰乱层的消除
（3）试样浸蚀后的清洗和保存
二、电解显示法
某些贵金属及其合金，化学稳定性很高，难以用化学浸蚀法显示组织，可采用电解浸蚀法。
如纯铝、纯银、金及其合金，不锈钢、耐热钢、钛合金等的浸蚀。
三、其它显示法
（一）着色显示的基本原理
首先使试样抛光表面形成一层程度不等的薄膜，通过薄膜干涉而增加各相之间的衬度，并使之具有不同的色彩。
（二）着色显示方法
1.热染发
将抛光后的试样在空气中加热（＜500℃），使抛光面形成厚薄不匀的氧化膜。
在显微镜下观察时，由于薄膜的干涉现象，便呈现不同的色彩。
热染显示的步骤：
（1）清洗
（2）氧化
（3）冷却
2.化学着色法
3.真空镀膜法（气相沉积法）
4.恒电位浸蚀法
在恒定的正极电位下，在一定成分的电解液中，经一定时间，只对某一相进行选择浸蚀的过程，不受另一相的影响，而且也不受相的相对量多少的影响，都能清晰呈现组织。
5.离子溅射法
离子溅射法是在专用的气体-离子反应室中进行。
§1-4金相组织的胶膜复型
在不允许破坏取样检验，可采用胶膜复型法。
该法的优点是：
1.操作迅速简便，可在现场复制一个可供观察的薄膜样品。
2.复型不受工件尺寸和形状限制。
3.复型显示的组织清晰，也可拍摄金相照片。
4.复型所需材料、设备简单，可在金相显微镜或生物显微镜下观察。
一、胶膜复型的原理
二、胶膜复型制作技术
（一）试样表面的磨制和浸蚀
用大型工件金相检查仪进行粗磨、细磨、电解抛光、深度浸蚀。
（二）胶质溶液的配制
两种方法：
1.将醋酸纤维或硝酸纤维透明胶片剪碎，用3×10-4～5×10-4kg溶于10ml乙酸乙酯或丙酮中，即成透明胶纸溶液。
2.将去除乳剂的照相胶片3×10-4～5×10-4kg，加入10ml三氯甲烷中，搅拌溶解后成为白色胶纸溶液，再加入2～3ml酒精，搅拌后即成无色透明胶纸溶液。
§1-5宏观检验
【宏观检验】用肉眼或放大镜检验金属表面或断口的宏观缺陷的方法，也称宏观分析或低倍组织检验。
宏观检验的内容：
1.铸态结晶组织。
表层细晶区、柱状晶区、中心等轴晶区。
2.铸件凝固时形成的气孔、缩孔、疏松等缺陷。
3.某些元素的宏观偏析，如钢中的硫、磷偏析等。
4.压力加工形成的流线、纤维组织。
5.热处理件的淬硬层、渗碳层和脱碳层等。
6.各种焊接缺陷以及夹杂物、白点、发纹、断口等。
一、热酸浸蚀法
1.试样制备
酸浸蚀试样制备时取样部位及数量按有关标准进行，并严防温度升高而引起组织变化。
切取试样用锯、剪、气割和砂轮切割等方式。
2.试剂
3.浸蚀时间
浸蚀时间与钢材成分、状态、表面粗糙度、检验目的和试剂新旧程度等有关，以低倍组织能清晰呈现为宜，一般为10～40min。
4.清洗
热水刷洗→碱水刷洗→热水刷洗→吹干。
5.热酸浸蚀的基本原理
二、冷酸浸蚀法
三、硫印实验法
1.硫印的基本原理
2.硫印操作
（1）配制2～5%硫酸水溶液。
（2）切取略大于试样表面的印相纸，浸入硫酸水溶液中1～2min。
……
（3）经3～5min，取下印相纸，进行水洗、定影、冲洗、上光干燥。
§1-6非金属夹杂物的检验
非金属夹杂物对钢材的危害：
1.导致应力集中，引起疲劳断裂。
2.降低塑性、韧性、焊接性、耐腐蚀性，易发生点蚀。
3.沿晶界分布的硫化物将引起热脆。
一、非金属夹杂物的分类
1.按夹杂物的来源分
（1）内在夹杂物
①在钢冶炼过程中的脱氧产物；②冶炼过程中溶解的硫、氧、氮形成的化合物。
③钢液内的反应产物和冷却时的析出物。
（2）外来夹杂物
钢在冶炼过程中，由炼钢炉、出钢槽、盛钢桶等内壁脱落物。
2.按夹杂物的化学成分分
（1）氧化物系
（2）硫化物系
（3）氮化物
3.按夹杂物的塑性分
（1）塑性夹杂物在压力加工过程中，成带状、断续条状、纺锤状等，如FeS等。
（2）脆性夹杂物在压力加工过程中，成破裂串，如AL2O3等。
（3）不变形夹杂物如SiO2等。
二、非金属夹杂物的鉴定方法
分为宏观和微观两种方法。
1.宏观鉴别方法
热酸浸蚀、冷酸浸蚀、硫印、超声波、磁粉探伤、断口分析等。
2.微观鉴别方法
化学分析、岩相法、金相法、X射线结构分析法、电子显微镜观察法、电子探针法等。
三、非金属夹杂物的金相鉴定
1.试样准备
（1）取样部位和数量按相应标准执行。
（2）磨制前经淬火和低温回火提高基体硬度，以免磨制时非金属夹杂物脱落。
（3）轻磨轻抛，短时完成。
（抛光布用短纤维、抛光粉用氧化镁等）
（4）抛光后→洗净→吹干→直接观察。
2.非金属夹杂物的主要特征
（1）形状
①球状FeO、SiO2→图6-1。
②方形、长方形、三角形、六角形、树枝状等图6-2
（2）夹杂物分布
成群聚集——Cr2O3；孤立分散——硅酸盐；
排列成串——AL2O3、FeO-MnO；沿晶分布——FeS、FeS-FeO共晶；
链状分布——AL2O3；
（3）夹杂物的透明度与色彩
夹杂物分为：
透明——硅酸盐、二氧化硅、硫化锰等。
在暗场下明亮，色彩鲜明。
图6-4。
半透明——
不透明——氮化物、硫化铁。
在暗场下呈暗黑色、白色两边。
图6-5。
（4）在偏振光下的各向异性效应
夹杂物有各向异性、各向同性之分。
各向异性的夹杂物在正交偏振光下，当转动显微镜的载物台360°时，产生对称的四次发光和消光现象。
图6-6示。
（5）夹杂物的黑十字现象
球状透明各向同性夹杂物，在正交偏振光下呈现独特的黑十字现象。
（6）夹杂物的硬度、塑性、抛光性
用纤维硬度计测量，初步判断。
（7）夹杂物的化学性能
根据夹杂物的抗蚀性不同。
四、非金属夹杂物的鉴定程序
五、非金属夹杂物的评定原则
第二章金相显微镜
§2-1显微镜的成像原理
众所周知，放大镜是最简单的一种光学仪器，它实际上是一块会聚透镜（凸透镜），利用它可以将物体放大。
其成像光学原理如图
1-1所示。
当物体AB置于透镜焦距f以外时，得到倒立的放大实像A′B′（如图2-1（a）），它的位置在2倍焦距以外。
若将物体AB放在透镜焦距内，就可看到一个放大正立的虚象A′B′（如图2-1（b））。
影像的长度与物体长度之比（A′B′/AB）就是放大镜的放大倍数（放大率）。
若放大镜到物体之间的距离a近似等于透镜的焦距（a≈f），而放大镜到像间的距离b近似相当于人眼明视距离（250mm），则放大镜的放大倍数为：
N=b/a=250/f。
（a）实像放大（b）虚像放大
图2-1放大镜光学原理图
由上式知，透镜的焦距越短，放大镜的放大倍数越大。
一般采用的放大镜焦距在10～100mm范围内，因而放大倍数在2.5～25倍之间。
进一步提高放大倍数，将会由于透镜焦距缩短和表面曲率过分增大而使形成的影像变得模糊不清。
为了得到更高的放大倍数，就要采用显微镜，显微镜可以使放大倍数达到1500～2000倍。
显微镜不象放大镜那样由单个透镜组成，而是由两级特定透镜所组成。
靠近被观察物体的透镜叫做物镜，而靠近眼睛的透镜叫做目镜。
借助物镜与目镜的两次放大，就能将物体放大到很高的倍数。
图2-2所示是在显微镜中得到放大物像的光学原理图。
图2-2显微镜光学原理图
被观察的物体AB放在物镜之前距其焦距略远一些的位置，由物体反射的光线穿过物镜，经折射后得到一个放大的倒立实象
，目镜再将实像
放大成倒立虚像
，这就是我们在显微镜下研究实物时所观察到的经过二次放大后的物像。
在设计显微镜时，让物镜放大后形成的实像
位于目镜的焦距f目之内，并使最终的倒立虚像
在距眼睛250mm处成像，这时观察者看得最清晰。
三、透镜的像差
透镜成像规律是依据近轴光线得出的结论。
【近轴光线】是指与光轴接近平行（即夹角很小）的光线。
【像差】实际成像与理想成像之间的偏离。
像差的存在影响象的清晰度、物和象之间的相似性、降低了光学仪器的精确性。
按像差产生原因可分为两类：
一类是单色光成像时的像差，叫做单色像差。
如球差、慧差、像散、像场弯曲和畸变均属单色像差；另一类是多色光成像时，由于介质折射率随光的波长不同而引起的像差，叫做色差。
色差又可分为位置色差和放大率色差。
1.球差
透镜成像的主要缺陷就是球面差和色差（波长差）。
球面差是指由于球面透镜的中心部分和边缘部分的厚度不同，造成不同折射现象，致使来自于试样表面同一点上的光线经折射后不能聚集于一点（图2-3），因此使影像模糊不清。
球面像差的程度与光通过透镜的面积有关。
光圈放得越大，光线通过透镜的面积越大，球面像差就越严重；反之，缩小光圈，限制边缘光线射入，使用通过透镜中心部分的光线，可减小球面像差。
但光圈太小，也会影响成像的清晰度。
色差的产生是由于白光中各种不同波长的光线在穿过透镜时折射率不同，其中紫色光线的波长最短，折射率最大，在距透镜最近处成像；红色光线的波长最长，折射率最小，在距透镜最远处成像；其余的黄、绿、蓝等光线则在它们之间成像。
这些光线所成的像不能集中于一点，而呈现带有彩色边缘的光环。
色差的存在也会降低透镜成像的清晰度，也应予以校正。
通常采用单色光源（或加滤光片），也可使用复合透镜。
如图2-3所示。
（a）球面像差（b）色差
图2-3透镜产生像差的示意图
2.场曲
垂直于透镜光轴的物体经过透镜折射后，每一物点均能得到一个像点，但全部像点不在一个平面上，即最清晰的像呈现在一个曲面上，这种像差称为场曲，如教材图2-12。
3.畸变
影响像与物几何相似性的像差称为畸变。
畸变也是由于光束的倾斜度较大而引起的，造成透镜近轴部分的放大率与边缘部分放大率不一致。
4.色差
§2-2显微镜的物镜和目镜
一、物镜
（一）物镜的类型
1.消色差及平场消色差物镜
消色差物镜限于校正黄绿光范围的球差，校正红绿光范围的色差。
平场消色差物镜对场曲和象散作进一步校正。
2.复消色差及平面复消色差物镜
复消色差物镜的轴向色差在红、绿、紫三个光区内均已校正。
球差校正的范围为绿光、紫光区，存在部分的垂轴色差。
平场复消色差物镜具有复消色差物镜的优点、场曲也得到进一步校正。
3.半复消色差物镜
（二）物镜的构造
各种透镜固定在金属圆筒内的复式透镜组，如图2-19所示。
（三）物镜的性能
物镜质量优劣与像差校正程度有关，此外
1.数值孔径
数值孔径表征物镜的聚光能力，严重影响显微镜的分辨力。
，如图2-21所示。
①介质的折射率n增大，NA变大。
常用油作为介质。
②增大α，NA变大。
措施有：
增加透镜的直径，但是给像差的校正带来困难；缩短物镜的焦距，这是目前常用的方法。
实际上α最大不能大于70°。
2.分辨能力
用能分辨两点间最小距离d的倒数1/d表示。
此外，实际上衍射现象限制了物镜的分辨能力。
经推导：
成像时，目镜进一步对物镜的像放大，但不能提高分辨力。
因此，显微镜的分辨力主要决定于物镜的分辨能力。
3.放大倍数
→M有效=500～1000NA。
4.景深
【景深】对高低不平的物体的能清晰成像的能力。
景深一般是以物体能同时清晰成像时最高点到最低点之间的距离dL表示。
（四）物镜的工作距离
指第一个物镜晶片到被观察物体之间的轴向距离。
一般高倍物镜的工作距离只有0.2～0.3mm。
为此在物镜内装有弹簧起缓冲作退让作用。
（五）物镜的标志图2-27
1.物镜类型
消色差物镜一般不标符号。
例如
复消色差物镜——“FS”；平场消色差物镜——“PC”；平场半复消色差物镜——“PF”。
2.放大倍数
放大倍数用数字和符号表示，有时省去符号，如40×。
有时物镜把焦距刻在外壳上。
3.数值孔径
直接标在外壳上，往往略去“NA”符号。
放大倍数和数值孔径联合标识，如40×/0.65。
4.机械镜筒长
长度不同的物镜不能互换。
5.盖玻片厚度
6.介质符号
二、目镜
可起放大、校正像差作用。
（一）惠更斯目镜图2-28、2-29
特点：
1.不能单独作为放大镜使用，又称负型目镜。
2.结构简单，价格便宜，未校正像差。
（二）补偿目镜图2-30
特点：
1.可以单独作为放大镜使用，又称正型目镜。
2.具有“色过正”特性，即过度地校正了垂轴色差，适合于平场消色差物镜、平场复消色差物镜。
3.像差校正较好。
（三）摄影目镜图2-31
特点类似于补偿目镜，还能在规定的放大倍数范围内，可得到足够平坦的像面。
（四）测微目镜
1.固定式测微目镜图2-32
相似于负型目镜，在目镜的光阑处加入一片有刻度的分划板。
2.游动式测微目镜
目镜上装有固定的刻度玻璃外，还有一块可以移动的玻璃片。
§2-3显微镜的照明系统
调整光束、改变采光方式、完成光线行程的转换。
一、光源及其使用方法
（一）光源
要求：
足够的发光强度，并可调；发光均匀；发热小；光源位置可调；光源寿命长、成本低等。
1.低压钨丝灯（白炽灯）
特点：
结构简单、价格低廉、发光面积小、光强度高而且均匀，但是发光效率低（10%）、亮度低、寿命短等。
2.卤钨灯
特点：
发光效率高，体积小，亮度高。
3.氙灯
特点：
发光效率高，体积小，发光稳定，光强度大等。
（二）光源使用方法
1.科勒照明图2-34
2.临界照明
二、垂直照明器及照明方式
【垂直照明器】借助一套专门的装置，将金相显微镜的侧向光线垂直转向的装置。
有平面玻璃反射镜、全反射棱镜、暗场用环形反射镜。
照明方式有明场照明、暗场照明。
（一）明场照明
光路：
光源
物镜→试样表面→反射光→物镜。
这样试样表面平坦部分在视场中明亮，而凹陷部位在视场中呈现黑色。
1.垂直光照明
最基本的照明法。
照明时，光线均匀垂直射在试样表面，被浸湿后的式样凹凸处无阴影产生，得到清晰平坦的图像。
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